凤岗铝材6061曝光显影加工价格服务至上「利成感光」时诗整容前后

化学显影法

化学显影法是利用乳剂层中卤化银晶体内的银离子，在显影时被显影剂还原而使潜影不断扩大的显影方法。即形成银影的银离子是靠乳剂层中的卤化银晶体本身提供的。化学显影法是常见和使用多的一种显影方法。目前制版系列的常规冲洗，均属化学显影的范畴。当我们在电子显微镜下观察显影过程时，会看到已曝光的卤化银一旦与显影剂接触，显影中心的金属银以细丝状逐渐增长。当细丝长到一定长度时，便向横向增长，致使整个颗粒都被还原子成金属银。使用优化后的Recipe生产测试版，重复CDUniformity测试，检验现有工艺条件下该指标的性能。由此可见，化学显影生成的银为丝团状，可提供较高的感光度。

此外，还要求能溶于水，本身及其氧化产物不含毒性等条件。以上条件仅是一般的要求，如果作为性能良好的显影剂来说，还应有更严格的要求，即显影速度快、还原银的颗粒细腻、灰雾度小、化学性能稳定以及显影容量大等等，当然要在一种显影剂上完全具备上述条件是很困难的，因其中有些要求本身是互相矛盾的。还原太慢或在还原过程中不能区分曝光和未曝光卤化银的还原剂都不能作为显影剂。例如Na,SO，和SnCl，等化学上都是很好的还原剂，可是由于亚硫酸钠还原卤化银的速度太慢；停显液是酸性水溶液，常用的有醋酸、硼酸、硫酸等，一般都使用弱酸。而氯化亚锡的还原能力又太强，它不仅能使已曝光的卤化银还原，同时也能使未曝光的卤化银还原，因此终得不到清晰的影像。

当显影液中含有亚硫酸钠时，即可消除上述不利影响，这是由于亚硫酸钠可迅速地与显影剂的氧化产物--配反应，生成了无色的可溶性的对二酚单磺酸钠，而且它还具有显影作用，是一种显影活性较弱的显影剂。这样不仅避免了显影过程中污染物质的大量形成，而且还将其氧化产物转化成有助于显影的物质，使显影液显影能力的得比较缓慢，起到了稳定显影能力的作用。当液温达到21℃以上时，定影液中一般要加入坚膜剂，以防止乳剂层被破坏。

“曝光显影工艺就是我们常说的黄光工艺，这种曝光工艺其实是很成熟的，它应用在PCB行业、半导体行业、甚至显示面板行业，但这种工艺应用到现在的3D玻璃盖板工艺的时间并不长。这种工艺的优点是曝光的精度高，它的良率高。”

虽然如此，但是PCB曝光工艺和半导体工艺曝光工艺条件不一样，PCB通常是贴合式曝光，曝光是没有距离的，但现在的盖板是3D曲面盖板，它的曝光，通常来说MASK它跟产品有一定的距离，这个距离会造成一定的偏差，所以它的工艺是有难点的。